Ukrainian | English |
аналіз слідів домішкових елементів на поверхні | surface elemental analysis |
антистатична обробка поверхні | antistatic surface treatment |
вивід, припаяний до нижньої поверхні | bottom-brazed lead (напр. кристалоносія) |
видалення залишків фоторезиста зі всієї поверхні | surface-wide stripping (напівпровідникової пластини) |
вирівнювання поверхні | planarization |
вирівнювання поверхні напівпровідникової пластини при виготовленні ВІС | large-scale integration surface leveling |
виступ на поверхні напівпровідника | semiconductor projection |
витік по поверхні діелектрика | creepage |
відпал поверхні | superficial annealing |
гетерування забруднень плівкою на нижній поверхні напівпровідникової пластини | back-side gettering |
готувати поверхню для подальшої обробки | prime |
домішка, нанесена на поверхню напівпровідника | spun-on dopant |
домішка, що наноситься на поверхню напівпровідника | spin-on impurity |
домішка, що наноситься на поверхню напівпровідника | spin-on dopant |
друкована плата із задньою монтажною поверхнею | back-wired panel |
ділянка поверхні без оксидного шару | oxide-free area |
ділянка поверхні кристала між компонентами | field |
експонована поверхня | exposed surface |
епітаксія на бічні поверхні | lateral epitaxy |
ерозія поверхні, що викликається іонами | ion erosion |
ефект захоплення носіїв дефектами поверхні | ploy effect (в ПЗЗ) |
залишковий шар на поверхні | residue overlayer |
зародкоутворення на поверхні | surface nucleation |
зміна властивостей поверхні | surface modification (підкладки) |
контроль якості поверхні | surface inspection |
крайова периферійна поверхня | peripheral surface |
крайова периферійна поверхня | edge surface |
кремній з відкритою поверхнею | bare silicon (без захисного оксидного шару) |
маркування на поверхні | surface marking |
металізація плоскої поверхні | planar metallization |
металізація поверхні канавок | recessed metallization |
механічний профільметр поверхні | mechanical surface profiler |
монтажна поверхня | mounting surface |
морфологія поверхні | surface morphology |
надчиста поверхня | micro-cleaned surface |
нижня поверхня | bottom |
низька шорсткість поверхні | fine finish |
область з поверхнею розділу кремній–сапфір | silicon-sapphire interface region |
оксид на поверхні розділу | interfacial oxide |
оксидування всієї поверхні | surface-wide oxidation (напівпровідникової пластини) |
оксидування для формування оксидного шару на поверхні | planar oxidation |
осадження на нерухому поверхню | static deposition (напр. напівпровідникової пластини) |
осадження на рухому поверхню | dynamic deposition (напр. напівпровідникової пластини) |
осадження покриття на всю поверхню | blanket deposition |
осадження під гострим кутом до поверхні | oblique deposition |
очищення поверхні | surface denuding (напр. підкладки) |
перебування на поверхні розділу | interface state |
пластина з плоскопаралельними поверхнями | planar wafer |
пластина з плоскопаралельними поверхнями | flat wafer |
плоска поверхня | plane |
плоска поверхня | planar surface |
поверхня епітаксійного шару | epitaxial surface |
поверхня планарного напівпровідникового приладу | planar surface |
поверхня розділу | boundary |
поверхня розділу кристала | crystal boundary |
поверхня з електропровідністю р-типу | p-type surface |
поверхня з електропровідністю n-типу | n-type surface |
поверхня з дефектами типу "апельсинова шкірка" | orange peel |
поверхня, що має шорсткість порядку одного атомного шару | atomically rough surface |
полірована поверхня | lapped face |
полірування нижньої поверхні | backlap (підкладки) |
початковий вихідний реагент, адсорбований на поверхні | surface-adsorber precursor |
прилад для вимірювання профілю поверхні, що самовстановлюється | self-leveling profiler |
процес на поверхні | surface process |
підготовка нижньої поверхні напівпровідникової пластини | backside preparation (напр. шліфування) |
підкладка без сходинок на поверхні | stepless substrate |
підкладка з плоскою поверхнею | stepless substrate |
рельєф поверхні | surface relief pattern |
розкрита відкрита поверхня | exposed surface |
розкриття поверхні | surface denuding |
розпилювання Процес випуску атомів або групи атомів з поверхні катода негативного електроду у вакуумній трубці як результат дії важких іонів | sputtering (Цей процес використовується для осадження тонкого шару металу на скло, пластик, метал або іншу поверхню у вакуумі) |
розсіювання на поверхні | surface scattering |
розчин для очищення поверхні | wipe solution (шляхом розчинення поверхневого шару) |
розчин миш'яку, що наноситься на поверхню напівпровідника | arsenic spin-on solution (для дифузії) |
сплав поверхонь розділу | interface alloying |
структура поверхні розділу | interface structure |
ступінь шорсткості поверхні | finish |
термоактивований гетерогенний процес на поверхні | thermally activated surface process |
технологія обробки, яка дозволяє одночасне отримання чистої поверхні, контроль площинності і зменшення товщини | chemo mechanical planarization |
технологія порошкового очищення поверхні | powder blasting (Очищення порошком це ерозійна технологія видалення матеріалу. Використовує кінетичну енергію частинок порошку для отримання тріщин на поверхні підкладки і, отже, видалення матеріалу) |
травлення всієї поверхні | blanket etching |
установка літографії по всій поверхні пластини | wafer aligner |
устаткування для нанесення легуючої домішки на поверхню напівпровідника | spin-on dopant coater |
формування провідного каналу в плоскій поверхні кристалла | planar channeling |
фотостимульована реакція на поверхні | photo-induced surface reaction |
характеристика поверхні розділу | interfacial characteristic |
хімія поверхні | surface chemistry |
хімія реакцій на поверхні, що стимулюються іонним пучком | ion-beam induced surface chemistry |
частинка на поверхні | surface particle |
чистота обробки поверхні | surface finish |
шар для вирівнювання поверхні | planarizing layer |
шар на поверхні | overlayer |
шар оксиду на поверхні планарного напівпровідникового приладу, планарний оксид | planar oxide |
шар фоторезисту, що перешкоджає забрудненню поверхні | anticontamination photoresist |
шліфована поверхня | lapped face |
шум, обумовлений домішковими станами на поверхні розділу | interface-state noise |
іонна імплантація у всю поверхню підкладки | surface-wide ion implantation |
іонно-стимульована реакція на поверхні | ion-induced surface reaction (гетерогенна реакція) |