| Ukrainian | English |
| аналіз слідів домішкових елементів на поверхні | surface elemental analysis |
| антистатична обробка поверхні | antistatic surface treatment |
| вивід, припаяний до нижньої поверхні | bottom-brazed lead (напр. кристалоносія) |
| видалення залишків фоторезиста зі всієї поверхні | surface-wide stripping (напівпровідникової пластини) |
| вирівнювання поверхні | planarization |
| вирівнювання поверхні напівпровідникової пластини при виготовленні ВІС | large-scale integration surface leveling |
| виступ на поверхні напівпровідника | semiconductor projection |
| витік по поверхні діелектрика | creepage |
| відпал поверхні | superficial annealing |
| гетерування забруднень плівкою на нижній поверхні напівпровідникової пластини | back-side gettering |
| готувати поверхню для подальшої обробки | prime |
| домішка, нанесена на поверхню напівпровідника | spun-on dopant |
| домішка, що наноситься на поверхню напівпровідника | spin-on impurity |
| домішка, що наноситься на поверхню напівпровідника | spin-on dopant |
| друкована плата із задньою монтажною поверхнею | back-wired panel |
| ділянка поверхні без оксидного шару | oxide-free area |
| ділянка поверхні кристала між компонентами | field |
| експонована поверхня | exposed surface |
| епітаксія на бічні поверхні | lateral epitaxy |
| ерозія поверхні, що викликається іонами | ion erosion |
| ефект захоплення носіїв дефектами поверхні | ploy effect (в ПЗЗ) |
| залишковий шар на поверхні | residue overlayer |
| зародкоутворення на поверхні | surface nucleation |
| зміна властивостей поверхні | surface modification (підкладки) |
| контроль якості поверхні | surface inspection |
| крайова периферійна поверхня | peripheral surface |
| крайова периферійна поверхня | edge surface |
| кремній з відкритою поверхнею | bare silicon (без захисного оксидного шару) |
| маркування на поверхні | surface marking |
| металізація плоскої поверхні | planar metallization |
| металізація поверхні канавок | recessed metallization |
| механічний профільметр поверхні | mechanical surface profiler |
| монтажна поверхня | mounting surface |
| морфологія поверхні | surface morphology |
| надчиста поверхня | micro-cleaned surface |
| нижня поверхня | bottom |
| низька шорсткість поверхні | fine finish |
| область з поверхнею розділу кремній–сапфір | silicon-sapphire interface region |
| оксид на поверхні розділу | interfacial oxide |
| оксидування всієї поверхні | surface-wide oxidation (напівпровідникової пластини) |
| оксидування для формування оксидного шару на поверхні | planar oxidation |
| осадження на нерухому поверхню | static deposition (напр. напівпровідникової пластини) |
| осадження на рухому поверхню | dynamic deposition (напр. напівпровідникової пластини) |
| осадження покриття на всю поверхню | blanket deposition |
| осадження під гострим кутом до поверхні | oblique deposition |
| очищення поверхні | surface denuding (напр. підкладки) |
| перебування на поверхні розділу | interface state |
| пластина з плоскопаралельними поверхнями | planar wafer |
| пластина з плоскопаралельними поверхнями | flat wafer |
| плоска поверхня | plane |
| плоска поверхня | planar surface |
| поверхня епітаксійного шару | epitaxial surface |
| поверхня планарного напівпровідникового приладу | planar surface |
| поверхня розділу | boundary |
| поверхня розділу кристала | crystal boundary |
| поверхня з електропровідністю р-типу | p-type surface |
| поверхня з електропровідністю n-типу | n-type surface |
| поверхня з дефектами типу "апельсинова шкірка" | orange peel |
| поверхня, що має шорсткість порядку одного атомного шару | atomically rough surface |
| полірована поверхня | lapped face |
| полірування нижньої поверхні | backlap (підкладки) |
| початковий вихідний реагент, адсорбований на поверхні | surface-adsorber precursor |
| прилад для вимірювання профілю поверхні, що самовстановлюється | self-leveling profiler |
| процес на поверхні | surface process |
| підготовка нижньої поверхні напівпровідникової пластини | backside preparation (напр. шліфування) |
| підкладка без сходинок на поверхні | stepless substrate |
| підкладка з плоскою поверхнею | stepless substrate |
| рельєф поверхні | surface relief pattern |
| розкрита відкрита поверхня | exposed surface |
| розкриття поверхні | surface denuding |
| розпилювання Процес випуску атомів або групи атомів з поверхні катода негативного електроду у вакуумній трубці як результат дії важких іонів | sputtering (Цей процес використовується для осадження тонкого шару металу на скло, пластик, метал або іншу поверхню у вакуумі) |
| розсіювання на поверхні | surface scattering |
| розчин для очищення поверхні | wipe solution (шляхом розчинення поверхневого шару) |
| розчин миш'яку, що наноситься на поверхню напівпровідника | arsenic spin-on solution (для дифузії) |
| сплав поверхонь розділу | interface alloying |
| структура поверхні розділу | interface structure |
| ступінь шорсткості поверхні | finish |
| термоактивований гетерогенний процес на поверхні | thermally activated surface process |
| технологія обробки, яка дозволяє одночасне отримання чистої поверхні, контроль площинності і зменшення товщини | chemo mechanical planarization |
| технологія порошкового очищення поверхні | powder blasting (Очищення порошком це ерозійна технологія видалення матеріалу. Використовує кінетичну енергію частинок порошку для отримання тріщин на поверхні підкладки і, отже, видалення матеріалу) |
| травлення всієї поверхні | blanket etching |
| установка літографії по всій поверхні пластини | wafer aligner |
| устаткування для нанесення легуючої домішки на поверхню напівпровідника | spin-on dopant coater |
| формування провідного каналу в плоскій поверхні кристалла | planar channeling |
| фотостимульована реакція на поверхні | photo-induced surface reaction |
| характеристика поверхні розділу | interfacial characteristic |
| хімія поверхні | surface chemistry |
| хімія реакцій на поверхні, що стимулюються іонним пучком | ion-beam induced surface chemistry |
| частинка на поверхні | surface particle |
| чистота обробки поверхні | surface finish |
| шар для вирівнювання поверхні | planarizing layer |
| шар на поверхні | overlayer |
| шар оксиду на поверхні планарного напівпровідникового приладу, планарний оксид | planar oxide |
| шар фоторезисту, що перешкоджає забрудненню поверхні | anticontamination photoresist |
| шліфована поверхня | lapped face |
| шум, обумовлений домішковими станами на поверхні розділу | interface-state noise |
| іонна імплантація у всю поверхню підкладки | surface-wide ion implantation |
| іонно-стимульована реакція на поверхні | ion-induced surface reaction (гетерогенна реакція) |
