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Terms
for subject
Electronics
containing
曝光
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all forms
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in specified order only
Chinese
English
一次
曝光
两次显影
single expose double develop
三维体
曝光
光学光刻模拟程序
simulator for optical lithography three-dimensional volume exposure
专用
曝光
开关
快门
X射线光刻
special exposure shutter
主
曝光
窗口
primary exposure window
二维
曝光
光强图形模拟程序
simulator for two-dimensional intensity pattern in aligner
光电阴极电子投影
曝光
机
photocathode electron projector
全圆片同时
曝光
full wafer exposure
全息
曝光
指数
holographic exposure index
全视场
曝光
系统
full field exposure system
分步投影
曝光
机
stepping-projection mask aligner
双
曝光
工艺
double exposure
process
双
曝光
全息照相术
double exposure holography
双
曝光
法
double exposure method
双
曝光
终点检测技术
double-exposure end-point detection
(technique)
双面
曝光
水冷壁
division wall
发光二极管间接
曝光
技术
LED indirect exposure
可变轴线浸没透镜投影
曝光
projection exposure with variable axis immersion lenses
可移动软接触掩蔽
曝光
法
portable conformable masking method
同时
曝光
与显影
simultaneous exposure and development
同时
曝光
与显影技术
simultaneous exposure and development technique
国际商业机器公司自动聚焦对准投影
曝光
机
IBM auto focus align
圆片电子束
曝光
机
wafer electron beam printer
圆片直接
曝光
direct wafer exposure
圆片载带
曝光
系统
wafer tape exposure system
多重电子束
曝光
系统
multiple electron beams exposure system
大
曝光
间隙光学系统
large exposure gap optics
X射线
曝光
量
X-ray exposure
尼康分步重复
曝光
系统
Nikon step-and-repeat exposure system
局部
曝光
剂量控制
local exposure dose control
局部额外
曝光
burn in
归一化
曝光
剂量
normalized exposure dosage
扩大调焦范围
曝光
技术
focus latitude enhancement exposure
扫描投影
曝光
机
scanning-projection mask aligner
抗蚀剂
曝光
邻近效应自洽校正技术
self-consistent proximity effect correction technique for resist exposure
整片
曝光
full wafer exposure
曝光
不足光致抗蚀剂
underexposed photoresist
曝光
值
light value
曝光
光致抗蚀剂
exposed photoresist
曝光
剂量分布模型
exposure dose distribution model
曝光
剂量范围
容度
exposure dose latitude
曝光
后放置时间
post exposure delay time
曝光
后焙烘
post-exposure baking
曝光
工位
exposure station
曝光
工段
exposure station
曝光
引生潜像
exposure induced latent image
曝光
强度分布
函数
exposure intensity distribution
function
曝光
强度变差法
exposure intensity variation method
曝光
量
控制技术
exposure control technique
曝光
机
mask aligner
曝光
比率计
exposure rate meter
曝光
潜像
exposure induced latent image
曝光
率
exposure rate
曝光
-离焦树
exposure-defocus tree
曝光
表
photo meter
曝光
计
表
exposure meter
曝光
过久
over exposure
曝光
量
illumination quantity
曝光
量下限
lower exposure limit
曝光
量-接近间隙关系曲线
gap-exposure diagram
曝光
量-离焦量关系曲线
exposure-defocus diagram
曝光
量-离焦量树
exposure-defocus tree
曝光
剂
量范围
exposure latitude
曝光
剂
量范围参数
exposure latitude parameter
曝光
量阈值
exposure threshold
曝光
量限制
exposure limit
未
曝光
的
核
unexposed
束斑扫描
曝光
模拟程序
simulator for spot scanning exposure
激光引曝
laser-supported detonation
点
曝光
剂量分布函数
point exposure distribution function
特征尺寸-
曝光
剂量依从关系
feature size depending dose
生产级电子束
曝光
系统
manufacturing electron beam exposure system
电子
曝光
electronic exposure
电子束
曝光
用化学放大式甲硅烷基抗蚀剂
silylating resist using chemical amplification for electron beam
直写式分步重复电子束
曝光
direct writing step-and-repeat electron-beam exposure
直接
曝光
膜
direct exposure film
直接分步
曝光
direct stepping exposure
相干截止
曝光
线宽
linewidth at the coherent cutoff
矢量扫描电子束
曝光
机
vector scan electron beam machine
磁锥焦管光电阴极电子投影
曝光
机
magnetic funnel photocathode electron projector
离子束投影
曝光
机
ion beam projector
离子束接近
曝光
机
ion beam proximity printer
移相掩模边缘增强
曝光
对准补偿法
PSM exposure alignment compensation method for edge enhancement
自动
曝光
量
控制
automatic exposure control
自动
曝光
量
控制技术
automatic exposure control technique
自动
曝光
表
automatic exposure meter
计算机控制电子束
曝光
系统
computer-controlled electron beam exposure system
轻
曝光
量抗蚀剂
resist for a light exposure
连续多重扫描
曝光
continuous multiple scanning exposure
迭加
曝光
量法
repeated exposures method
透射比-
曝光
量关系曲线
transmittance-exposure curve
邻区
曝光
量
proximity exposure
邻区
曝光
量补偿
proximity exposure compensation
邻近
曝光
效应
proximity exposure
邻近
曝光
效应
校正
proximity exposure compensation
重复
曝光
法
repeated exposures method
间歇多重扫描
曝光
intermittent multiple scanning exposure
(SRXL)
限制实际
曝光
时间
limiting actual exposure time
高压电子束
曝光
系统
high voltage electron beam exposure system
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