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Terms for subject Microelectronics containing writing | all forms | exact matches only
EnglishGerman
adjust the beam position during the writing of subsequent stripesdie Strahlposition während des Schreibens der folgenden Streifen justieren
area writing rateFlächenschreibgeschwindigkeit
beam writing rateStrahlschreibgeschwindigkeit
beam writing speedStrahlschreibgeschwindigkeit
direct E-beam slice writing techniqueDirektschreibverfahren mittels Elektronenstrahlen
direct 1×E-beam writing on the waferElektronenstrahldirektschreiben auf Wafer
direct 1×E-beam writing on the waferDirektschreiben der Struktur auf Wafer mit Elektronenstrahl
direct slice writingDirektstrukturierung der Halbleiterscheibe
direct wafer writing with an electron beamES-Direktschreiben
direct wafer writing with an electron beamDirektschreiben mit einem Elektronenstrahl
direct writingDirektschreiben (auf Wafer mit Elektronenstrahlen)
direct writing applicationAnwendung des direkten Schreibens
direct-writing electron-beam systemElektronenstrahldirektschreiber
direct-writing electron-beam technologyElektronenstrahldirektschreibertechnik
direct writing free of proximity effectsDirektschreiben ohne Proximity-Effekte
direct-writing machineDirektschreiber
direct-writing manufacturing toolDirektschreiber für Produktionseinsatz
direct-writing modeDirektschreibverfahren
direct writing of the device pattern with a scanning electron beamDirektschreiben der Bauelementstruktur mit einem Rasterelektronenstrahl
direct writing on the waferdirekte Strukturierung des Wafers (durch Elektronenstrahlbelichtung)
direct writing on the waferDirektbelichtung des Wafers
direct writing with an electron beamES-Direktschreiben
direct writing with an electron beamDirektschreiben mit einem Elektronenstrahl
electron beam direct slice writingElektronenstrahldirektschreiben auf Wafer
electron beam direct-writing lithographic systemlithografische Elektronenstrahlanlage für direkte Scheibenbelichtung
electron beam mask writing systemElektronenstrahlmaskenschreiber
electron beam writing instrumentElektronenstrahldirektschreiber
electron beam writing instrumentElektronenstrahlschreiber
electron beam writing machineElektronenstrahldirektschreiber
electron beam writing machineElektronenstrahlschreiber
electron-beam direct-writing on the waferES-Direktschreiben den Wafer
electron-beam direct-writing on the waferES-Direktschreiben auf Wafer
electron-beam direct-writing wafer exposure equipmentElektronenstrahl-Direktschreiberanlage
electron-beam writing directly on chipDirektstrukturierung des Chips durch Elektronenstrahlen
electron-beam writing techniqueElektronenstrahlbelichtungsverfahren
field-by-field writingfeldweises Schreiben
fill in the rectangle by the writing beamdas Rechteck mit dem Schreibstrahl ausfüllen
low-resolution writingSchreiben mit geringer Auflösung
mask writing errorMaskenschreibfehler
mask-writing exposure systemMaskenschreiber
microfabrication of submicron devices by direct writingMikroherstellung von Submikrometerelementen durch Direktbelichtung
pattern-writing techniqueStrukturschreibverfahren
raster-scan writing schemeRasterscan-Schreibsystem
read-while-writinggleichzeitiges Einlesen und Schreiben
rectangle writing techniqueRechteckschreibverfahren
run at writing rates of 40 MHzmit Schreibgeschwindigkeiten von 40 MHz arbeiten
serial electron-beam writingserielles Schreiben mit Elektronenstrahl
slow speed in writing an entire maskgeringe Geschwindigkeit des Maskenschreibens
step the beam across the writing fieldden Strahl schrittweise über das Schreibfeld führen
stop point of the writing beamEndlage des Schreibstrahls
strip writingStreifenschreiben
subfield vector-writing techniqueUnterfeldvektorschreibverfahren
substrate writing areaSubstratschreibfläche
variably shaped writing spotFormstrahl
vector scan writing methodVektorscan-Schreibverfahren
vector scan writing schemeVektorscan-Schreibregime
writing accuracySchreibgenauigkeit
writing beamSchreibstrahl
writing chamberSchreibkammer
writing control programBearbeitungssteuerungsprogramm
writing deflectionAblenkung fdes Schreibstrahls
writing fieldSchreibfeld
writing field boundarySchreibfeldgrenze
writing of a master maskSchreiben einer Originalschablone
writing of the stripeSchreiben des Streifens
writing pathSchreibweg
writing planeSchreibebene
writing pulseSchreibimpuls
writing schemeSchreibregime
writing signalSchreibsignal
writing speed improvementVerbesserung der Schreibgeschwindigkeit
writing speed improvementErhöhung der Schreibgeschwindigkeit
writing spotSchreibstrahl
writing spotSchreibsonde
writing strategySchreibstrategie
writing timeExpositionszeit (Elektronenstrahllithografie)
writing timeBelichtungszeit
writing timeSchreibzeit
writing time comparisonSchreibzeitvergleich
writing time for a waferSchreibzeit für einen Wafer
writing with an electron beamBearbeiten mit Elektronenstrahl (ES-Lithografie)
writing with an electron beamSchreiben mit Elektronenstrahl (ES-Lithografie)