Sign in
|
English
|
Terms of Use
Dictionary
Forum
Contacts
Russian
⇄
Abkhaz
Afrikaans
Arabic
Bulgarian
Chinese
Czech
Danish
Dutch
English
Esperanto
Estonian
Finnish
French
Georgian
German
Greek
Hebrew
Hungarian
Italian
Japanese
Kalmyk
Khmer
Latvian
Norwegian Bokmål
Persian
Polish
Portuguese
Romanian
Scottish Gaelic
Serbian Latin
Spanish
Swedish
Tajik
Turkish
Ukrainian
Vietnamese
Terms
for subject
Microelectronics
containing
Использование
|
all forms
|
exact matches only
Russian
English
алгоритм восстановления при появлении ошибки с
использованием
возврата
backward error recovery algorithm
анализ отказов с
использованием
жидкокристаллических кристаллов
liquid-crystal failure analysis
вариант резервирования с
использованием
лазерного выжигания перемычек
laser redundancy option
вариант управления с
использованием
микропрограммирования
microprogrammed control option
визуальный контроль с
использованием
рентгеновских лучей
x-ray visual
диффузия с
использованием
маски
masked diffusion
изготавливаемая по заказу интегральная схема, предназначенная для
использования
в специфичных приложениях
custom-built IC designed to address a specific application
(
ssn
)
изготавливаемая по заказу интегральная схема, предназначенная для
использования
в специфичных приложениях
custom-built integrated circuit designed to address a specific application
(
ssn
)
изготавливаемая по заказу ИС, предназначенная для
использования
в специфичных приложениях
custom-built IC designed to address a specific application
(
ssn
)
изготавливаемая по заказу ИС, предназначенная для
использования
в специфичных приложениях
custom-built integrated circuit designed to address a specific application
(
ssn
)
изготавливаемая по заказу микросхема, предназначенная для
использования
в специфичных приложениях
custom-built IC designed to address a specific application
(
ssn
)
изготавливаемая по заказу микросхема, предназначенная для
использования
в специфичных приложениях
custom-built integrated circuit designed to address a specific application
(
ssn
)
изготовление с
использованием
ЭВМ
computer-aided preparation
ИС, изготовленная с
использованием
трёх фотошаблонов
tri-mask integrated circuit
ИС изготовленная с
использованием
эпитаксиальной технологии
epitaxial integrated circuit
использование
площади кристалла
chip utilization
литография с
использованием
синхротронного излучения
synchrotron lithography
литография с
использованием
УФ-излучения
ultraviolet lithography
манипулятор с
использованием
стандартного механического интерфейса
SMIF arm
маскирование с
использованием
промежуточного фотошаблона
reticle masking
метод выращивания кристаллов с
использованием
холодного тигля
cold-crucible technique
метод диффузии с
использованием
оксидных масок
masked diffusion technique
метод изоляции с
использованием
вертикального анизатропного травления
V-ATC technique
метод изоляции с
использованием
ионной имплантации
implantant-isolation technique
метод фотолитографии с
использованием
дальнего ультрафиолетового излучения
deep-ultraviolet photolithographic technology
метод фотолитографии с
использованием
ультрафиолетового излучения
ultraviolet photolithography technology
моделирование неисправностей с
использованием
дедуктивного алгоритма
deductive fault simulation
обработка с
использованием
рельефных масок
relief-mask processing
планарно-эпитаксиальная технология с
использованием
нескольких эпитаксиальных слоёв
multiple-epitaxial planar technology
подгонка с
использованием
лазерного ила электронного луча
zapping
подгонка с
использованием
стабилитронов
zener zapping
проектирование ИС с
использованием
последовательных регистровых передач
level-sensitive scan design
проектирование с
использованием
произвольной логики
random-logic design
проектирование с
использованием
регулярной логики
regular-logic design
проигрыш в
использовании
кремниевого кристалла
loss of silicon area
процесс для формирования схем металлических межсоединений на пластинах с
использованием
химико-механической полировки взамен травления металла
damascene
(
NNB
)
рекристаллизация без
использования
затравки
seedless recrystallization
рекристаллизация с
использованием
затравки
seeded recrystallization
САПР, полностью готовая к
использованию
turnkey CAD system
синтез с
использованием
стандартных ячеек
standard cell synthesis
совмещение с
использованием
двойной дифракционной решётки
double-diffraction alignment
совмещение с
использованием
дифракционной решётки
diffraction grating alignment
совмещение с
использованием
френелевских зон
Fresnel-zone alignment
специализация ИС с
использованием
двухслойной металлизации
double-layer metal personalization
степень
использования
utilization factor
степень
использования
логических элементов
gate utilization
технология ИС с
использованием
легирования золотом
gold-doped process
технология ИС с
использованием
трёх фотошаблонов
tri-mask technique
технология ИС с
использованием
трёх фотошаблонов
three-mask process
установка литографии с
использованием
ультрафиолетового излучения
uv exposure system
установка литографии с
использованием
УФ-излучения
uv exposure system
формирование изображений с
использованием
мозаичной матрицы
mosaic imagery
формирование рисунка без
использования
фоторезистора
resistless patterning
фотолитография с
использованием
фоторезистов на основе диазосоединений
diazo imagery
частично-целочисленное программирование с
использованием
алгоритма ветвей
branch-bound mixed integer programming
эпитаксия с
использованием
затравочного кристалла
seeding epitaxy
Get short URL