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| advance attainable line widths to 0.5 micron | erreichbare Linienbreiten auf 0,5 μm reduzieren |
| average width of the feature | mittlere Strukturbreite |
| base stripe width | Basisstreifenbreite |
| base width | Basisbreite |
| beam edge width | Böschungsbreite |
| change in line width | Linienbreiteänderung |
| channel length-to-width ratio | Verhältnis von Kanallänge zu Kanalbreite |
| channel width of p-channel transistors | breite von p-Kanaltransistoren |
| channel width of p-channel transistors | Kanal |
| channel width perpendicular to current flow | Kanalbreite senkrecht zum Stromfluß |
| chip pattern width | Chipstrukturbreite |
| circuit line of 0.2 μm width | Schaltkreiselement von 0,2 μm Breite |
| clock-pulse width | Taktimpulsdauer |
| collector width | Kollektorbreite |
| conductor width | Leitbahnbreite |
| control of line width | Einhaltung der Linienbreite |
| control tolerance of 10 % of the minimum line width | Einhaltungstoleranz von 10 % der kleinsten Linienbreite |
| copper trace of standard width | Kupferleitbahn genormter Breite |
| data path width | Datenwegbreite |
| delineate smaller line widths with greater positional accuracy | kleinere Strukturbreiten mit höherer Lagegenauigkeit erzeugen |
| depletion layer width | Sperrschichtbreite |
| depletion width of the Schottky barrier | Sperrschichtbreite der Schottkyschen Randschicht |
| depletion-region width | Breite der Verarmungszone |
| depth-to-width ratio | Verhältnis von Tiefe zu Breite (von geätzten Kanälen) |
| double-width character | Zeichen doppelter Breite |
| edge width | Böschungsbreite |
| encroachment into the channel width | Vordringen in die Kanalbreite |
| encroachment into the channel width | Eindringen in die Kanalbreite |
| etched line width | Ätzlinienbreite |
| feature width | Elementbreite |
| feature width | Strukturbreite |
| flashes of varying widths, lengths, and rotations | Belichtungsstempel unterschiedlicher Breite, Länge und Drehung |
| flashes of varying widths, lengths, and rotations | Stempel unterschiedlicher Breite, Länge und Drehung |
| fractional change in line width | partielle Veränderung fder Linienbreite |
| full width address | gesamter Adreßraum |
| gap width | Breite des Bandabstands (Halbleiter) |
| gap width | Abstandsbreite |
| gate width | Gatebreite |
| height-to-width aspect ratio | Seitenverhältnis (im Resist) |
| interface width | Breite an der Grenzschicht (zwischen Resist und Substrat) |
| intrachip line width variation | Linienbreiteschwankung innerhalb eines Chips |
| kerf width | Schnittbreite (einer Diamantsäge beim Trennen einer Halbleiterscheibe) |
| line edge width | Böschungsbreite der Linien |
| line edge width | Böschungsbreite der Linie |
| line width | Elementbreite |
| line width | Strukturbreite |
| line width change | Linienbreiteänderung |
| line width control | Kontrolle der Linienbreite |
| line width control | Sicherung fder gleichmäßigen Linienbreite |
| line width control | Einhaltung der Linienbreite |
| line width error | Linienbreitefehler |
| line width measurement | Strukturbreitemessung |
| line width measurement | Linienbreitemessung |
| line width measurement program | Linienbreitemeßprogramm |
| line width measuring device | Strukturbreitenmeßgerät |
| line width measuring device | Linienbreitemeßgerät |
| line width measuring microscope | Strukturbreitenmeßmikroskop |
| line width measuring microscope | Linienbreitemeßmikroskop |
| line width measuring optical microscope | Lichtmikroskop für Linienbreitemessung |
| line width measuring optical microscope | optisches Linienbreitemeßmikroskop |
| line width measuring system | Strukturbreitenmeßgerät |
| line width measuring system | Linienbreitemeßgerät |
| line width resolution | Strukturbreitenauflösung |
| line width resolution | Linienbreiteauflösung |
| line width tolerance | zulässige Schwankung der Linienbreite |
| line width uniformity | Gleichmäßigkeit der Linienbreite (Strukturbreite) |
| line width variation | Änderung fder Linienbreite |
| line width variation | Schwankung fder Linienbreite |
| line width variation | Linienbreiteschwankung |
| maintain the correct width of the feature | die richtige Strukturbreite einhalten |
| minimum pattern line width | kleinste Elementbreite der Struktur |
| minimum pattern line width | kleinste Strukturelementbreite |
| minimum pattern width | kleinste Strukturbreite |
| narrow base width | kleine Basisbreite |
| NDRO-micrometre line width | Linienbreite von annähernd einem Mikrometer |
| neck width | Breite der engsten Stelle (der belichteten Resiststruktur) |
| non-uniformity of line widths on non-flat substrates | Ungleichmäßigkeit der Linienbreiten auf unebenen Substraten |
| pattern line width | Strukturlinienbreite |
| pattern line width | Strukturbreite |
| pattern line width control | Strukturbreitenkontrolle |
| pattern width | Strukturbreite |
| penumbral width | Halbschattenbreite |
| photoresist land of known width | Fotoresiststeg bekannter Breite |
| pixel width | Pixelgröße |
| printed line width | kopierte Linienbreite |
| pulse-width measurement | Impulsbreitenmessung |
| pulse-width measurement | Pulsbreitenmessung |
| pulse-width-modulated D-A converter | impulsbreitenmodulierter D-A-Umsetzer |
| pulse-width-modulated output | impulsbreitenmodulierter Ausgang |
| pulse-width modulator | Impulsbreitenmodulator |
| pulse-width recording | Impulsbreitenaufzeichnung |
| pulse-width-spacing range | Tastverhältnisbereich |
| rectangles of varying locations, widths, and lengths | Belichtungsstempel unterschiedlicher Lage, Breite und Länge (Elektronenstrahllithografie) |
| reproduction of line width | Reproduktion der Linienbreite |
| reset pulse width | Rücksetzimpulsdauer |
| resist line width variation over steps | Resistlinienbreiteänderung über Stufen |
| scan an arc-shaped image field of 1 mm width across the wafer | ein bogenförmiges Bildfeld von 1 mm Breite rasterartig über den Wafer führen |
| set pulse width | Setzimpulsdauer |
| smallest achievable line width | kleinste erreichbare Elementbreite (Strukturbreite) |
| space width | Linienabstandsbreite |
| space width | Zwischenraumbreite |
| specify a pattern as a series of flashes of varying widths and lengths | eine Struktur als eine Serie von Belichtungsstempeln unterschiedlicher Breite und Länge spezifizieren |
| step face width | Böschungsbreite |
| stripe width of a pattern | Streifenbreite einer Struktur |
| submicron line width pattern | Struktur mit Linien-breiten unter 1 pm |
| tape width | Filmbandbreite |
| test chart of lines of progressively decreasing line width and separation | Linientest mit zunehmend kleineren Linienbreiten und -abständen |
| tight line width control | strenge Einhaltung der Linienbreite |
| trench width | Grabenbreite |
| unit-distance pixel width | Pixeleinheitsbreite |
| variable-width register | Register variabler Breite |
| variation in line width | Schwankung fder Linienbreite |
| width of space-charge region | Breite der Raumladungszone |
| width of step edge | Böschungsbreite |
| width of the base and emitter regions | Breite der Basis- und Emitterzonen |
| width of the depletion region | Breite der Randverarmungszone |
| width of the feature | Strukturbreite |
| wire width | Leiterbreite |
