DictionaryForumContacts

   English
Terms for subject Nanotechnology containing deposited | all forms | exact matches only
EnglishRussian
as-deposited filmпросветляющая плёнка
chemical deposited nanocrystalнанокристалл, полученный методом химического осаждения
chemical vapor deposited precursorпрекурсор, химически осаждённый из паровой фазы
chemical vapor deposited precursorпрекурсор, химически осаждённый из газовой фазы
chemically-deposited printed circuitпечатная схема, полученная методом химического осаждения
chemically vapor deposited coatingпокрытие химическим осаждением из паровой фазы
chemically vapor deposited coatingпокрытие химическим осаждением из газовой фазы
chemically vapor deposited nanocoatingнанопокрытие, полученное химическим осаждением из паровой фазы
chemically vapor deposited nanocoatingнанопокрытие, полученное химическим осаждением из газовой фазы
CVD-deposited quantum dotsКТ, полученные методом газофазного химического осаждения
CVD-deposited quantum dotsКТ, полученные методом химического осаждения из газовой фазы
CVD-deposited quantum dotsКТ, полученные методом химического осаждения из паровой фазы
CVD-deposited quantum dotsКТ, полученные ГФХО-методом
deposited clusterосаждённый кластер
deposited coatingосаждённое покрытие
deposited filmнапылённая плёнка
deposited film formationформирование осаждаемой плёнки
deposited film nanoreliefнанорельеф осаждаемой плёнки
deposited ionsосаждённые ионы
deposited metal-polymer nanocompositeосаждённый металлополимерный нанокомпозит
deposited nanocoatingосаждённое нанопокрытие
deposited nanopackingsосаждённые НЧ
deposited nanotubeосаждённая НТ
deposited reflecting coatingнапыляемое отражающее покрытие
e-beam vapor deposited coatingпокрытие методом физического осаждения из газовой фазы при электронно-лучевом испарении
electrochemical deposited hybrid solar cellгибридный СЭ, получаемый электрохимическим осаждением
electron beam vapor deposited coatingпокрытие методом физического осаждения из газовой фазы при электронно-лучевом испарении
ionic-plasma deposited coatingпокрытие ионно-плазменным распылением (по методу физического осаждения из газовой фазы)
layer-by-layer deposited filmпослойно осаждаемая плёнка
LBL deposited filmпослойно осаждаемая плёнка
MBE-deposited nanopackingsНЧ, осаждённые МПЭ-методом
MBE-deposited nanopackingsНЧ, осаждённые МЛЭ-методом
MBE-deposited nanopackingsНЧ, осаждённые методом молекулярно-пучковой эпитаксии
MBE-deposited nanopackingsНЧ, осаждённые методом молекулярно-лучевой эпитаксии
metalorganic chemical vapor deposited coatingпокрытие химическим осаждением из паров металлоорганических соединений
molecular beam epitaxy-deposited nanopackingsНЧ, осаждённые МПЭ-методом
molecular beam epitaxy-deposited nanopackingsНЧ, осаждённые методом молекулярно-пучковой эпитаксии
molecular beam epitaxy-deposited nanopackingsНЧ, осаждённые МЛЭ-методом
molecular beam epitaxy-deposited nanopackingsНЧ, осаждённые методом молекулярно-лучевой эпитаксии
physical vapor deposited coatingпокрытие физическим осаждением из газовой фазы
physical vapor deposited nanostructureнаноструктура, полученная методом физического осаждения из газовой фазы
plasma-chemical deposited coatingпокрытие плазмохимическим осаждением
plasma-chemical deposited coatingпокрытие плазменно-химическим осаждением
plasma-chemical vapor deposited coatingпокрытие плазмохимическим осаждением из газовой фазы
plasma-chemical vapor deposited coatingпокрытие по методу ПХО
plasma-chemical vapor deposited coatingпокрытие плазменно-химическим осаждением из газовой фазы
plasma-enhanced chemical vapor deposited coatingпокрытие по методу ПХГФО
plasma-enhanced chemical vapor deposited coatingпокрытие плазмохимическим газофазным осаждением
plasma-enhanced chemical vapor deposited coatingпокрытие плазмостимулированным газофазным осаждением
selectively-deposited CNTs arrayселективно осаждённый массив УНТ
sputter-deposited nanopackingsосаждённые распылителем НЧ
surface deposited energyэнергия, подведённая к поверхности цели
thermal vapor deposited coatingпокрытие методом физического осаждения из газовой фазы термическим испарением
vacuum-deposited capacitorконденсатор, изготовленный методом вакуумного осаждения
vacuum deposited filmплёнка, выращенная термовакуумным осаждением
vapor-deposited filmплёнка, осаждённая из паровой фазы
vapor-deposited junctionпереход, полненный методом осаждения из паровой фазы
vapor-deposited junctionпереход, полненный методом осаждения из газовой фазы
vapor-deposited matrixматрица, осаждённая из паровой фазы
vapor-deposited matrixматрица, осаждённая из газовой фазы