| English | Russian |
| anodic deposition | анодное осаждение |
| arc physical vapor deposition | физическое осаждение из газовой фазы испарением в электрической дуге |
| arc physical vapor deposition coating | покрытие методом физического осаждения из газовой фазы испарением в электрической дуге |
| arc physical vapor deposition method | метод физического осаждения из газовой фазы испарением в электрической дуге |
| atmospheric pressure chemical vapor deposition-based nanotechnology | нанотехнология на основе метода химического осаждения из паровой фазы при атмосферном давлении |
| atmospheric pressure chemical vapor deposition-based nanotechnology | нанотехнология на основе метода химического осаждения из газовой фазы при атмосферном давлении |
| atmospheric pressure chemical vapor deposition nanotechnology | нанотехнология на основе метода химического осаждения из паровой фазы при атмосферном давлении |
| atmospheric pressure chemical vapor deposition nanotechnology | нанотехнология на основе метода химического осаждения из газовой фазы при атмосферном давлении |
| atomic deposition | атомное осаждение |
| atomic layer deposition | атомно-слоевое осаждение |
| atomic layer deposition | атомно-слоёвое осаждение |
| atomic layer deposition | осаждение атомных слоев (Халеев) |
| atomic layer deposition-based nanofabrication | нанопроизводство по технологии атомно-слоёвого осаждения |
| atomic layer deposition-based nanofabrication | нанопроизводство по технологии атомно-слоевого осаждения |
| atomic layer deposition-based nanotechnology | нанотехнология на основе метода атомно-слоёвого осаждения |
| atomic layer deposition-based nanotechnology | нанотехнология на основе метода атомно-слоевого осаждения |
| atomic layer deposition-fabricated film | плёнка, изготовленная методом атомно-слоёвого осаждения |
| atomic layer deposition-fabricated film | плёнка, изготовленная методом атомно-слоевого осаждения |
| atomic layer deposition-fabricated nanostructure | наноструктура, полученная по технологии атомно-слоёвого осаждения |
| atomic layer deposition-fabricated nanostructure | наноструктура, полученная по технологии атомно-слоевого осаждения |
| atomic layer deposition functionalization | функционализация атомно-слоёвым осаждением |
| atomic layer deposition functionalization | функционализация атомно-слоевым осаждением |
| atomic layer deposition nanotechnology | нанотехнология на основе метода атомно-слоёвого осаждения |
| atomic layer deposition nanotechnology | нанотехнология на основе метода атомно-слоевого осаждения |
| atomic layer deposition synthesis | синтез при атомно-слоёвом осаждении |
| atomic layer deposition synthesis | синтез при атомно-слоевом осаждении |
| atomic layer deposition technology | технология атомно-слоёвого осаждения |
| atomic layer deposition technology | технология атомно-слоевого осаждения |
| atomic layer deposition technology-assisted formation | формирование по технологии атомно-слоёвого осаждения (напр. нанопленки) |
| atomic layer deposition technology-assisted formation | формирование по технологии атомно-слоевого осаждения (напр. нанопленки) |
| atomic layer deposition technology-formed monolayer | монослой, образованный по технологии атомно-слоёвого осаждения |
| atomic layer deposition technology-formed monolayer | монослой, образованный по технологии атомно-слоевого осаждения |
| atomic layer deposition technology-formed multilayer | мультислой, образованный по технологии атомно-слоёвого осаждения |
| atomic layer deposition technology-formed multilayer | мультислой, образованный по технологии атомно-слоевого осаждения |
| atomic layer deposition technology-produced nanofilm | нанопленка, изготовленная по технологии атомного-силового осаждения |
| atomic layer deposition technology-produced nanofilm | наноплёнка, изготовленная по технологии атомного-силового осаждения |
| axial vapor deposition | аксиальное осаждение из паровой фазы |
| carbon nanocluster deposition | осаждение нанокластеров углерода |
| carbon nanotubes chemical vapor deposition | газофазное химическое осаждение УНТ |
| catalyst chemical vapor deposition | химическое осаждение из газовой фазы с катализатором |
| catalyst chemical vapor deposition | газофазное химическое осаждение с катализатором |
| catalyst chemical vapor deposition | химическое осаждение из паровой фазы с катализатором |
| catalyst chemical vapor deposition | газофазное выращивание с катализатором |
| catalytic chemical vapor deposition | каталитическое химическое осаждение из паровой фазы |
| catalytic chemical vapor deposition | каталитическое химическое осаждение из газовой фазы |
| catalytic chemical vapor deposition | каталитическое ГФХО |
| catalytic chemical vapor deposition | каталитическое газофазное химическое осаждение |
| cathodic deposition | катодное осаждение |
| chemical beam deposition | химическое пучковое осаждение |
| chemical solution deposition | химическое осаждение раствора |
| chemical vapor deposition | ГФХО |
| chemical vapor deposition | газофазное химическое осаждение |
| chemical vapor deposition-based carbon nanostructure | УНС, полученная по технологии химического газофазного осаждения |
| chemical vapor deposition-based treatment | обработка методом химического осаждения из паровой фазы |
| chemical vapor deposition-based treatment | обработка методом химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition-based treatment | обработка методом газофазного химического осаждения |
| chemical vapor deposition-based treatment | обработка ГФХО-методом |
| chemical vapor deposition gas | газ в технологии химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition gas | газ в технологии химического осаждения из паровой фазы |
| chemical vapor deposition gas | газ в технологии газофазного химического осаждения |
| chemical vapor deposition grown diamond | алмаз, выращенный методом химического осаждения из паровой фазы |
| chemical vapor deposition grown diamond | алмаз, выращенный методом химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition-grown silicon nanowire | кремниевая нанонить, выращенная методом химического осаждения из паровой фазы |
| chemical vapor deposition-grown silicon nanowire | кремниевая нанонить, выращенная методом химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition growth | рост с применением метода газофазного химического осаждения |
| chemical vapor deposition growth | выращивание методом газофазного химического осаждения |
| chemical vapor deposition method | метод химического осаждения из паровой фазы |
| chemical vapor deposition method | метод химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition nanofabrication | нанопроизводство газофазным химическим осаждением |
| chemical vapor deposition nanofabrication | нанопроизводство по технологии химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition nanofabrication | нанопроизводство по технологии химического осаждения из паровой фазы |
| chemical vapor deposition nanofabrication | ГФХО-нанопроизводство |
| chemical vapor deposition process | процесс химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition process | процесс химического осаждения из паровой фазы |
| chemical vapor deposition process | процесс химического газофазного осаждения |
| chemical vapor deposition-produced nanocrystalline diamond film | нанокристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из паровой фазы |
| chemical vapor deposition-produced nanocrystalline diamond film | поликристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из паровой фазы |
| chemical vapor deposition-produced nanocrystalline diamond film | поликристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из газовой фазы |
| chemical vapor deposition-produced nanocrystalline diamond film | нанокристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из газовой фазы |
| chemical vapor deposition-produced polycrystalline diamond film | поликристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из газовой фазы |
| chemical vapor deposition-produced polycrystalline diamond film | нанокристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из паровой фазы |
| chemical vapor deposition-produced polycrystalline diamond film | поликристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из паровой фазы |
| chemical vapor deposition-produced polycrystalline diamond film | нанокристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из газовой фазы |
| chemical vapor deposition reactor | реактор газофазного химического осаждения |
| chemical vapor deposition reactor | реактор химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition reactor | реактор для газофазного выращивания |
| chemical vapor deposition reactor | ГФХО-реактор |
| chemical vapor deposition synthesis | синтез по технологии химического осаждения из паровой фазы |
| chemical vapor deposition synthesis | синтез по технологии химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition synthesis | синтез по технологии химического газофазного осаждения |
| chemical vapor deposition synthesis chamber | камера установки для синтеза химическим осаждением из паровой фазы |
| chemical vapor deposition synthesis chamber | камера установки для синтеза ГФХО-синтеза |
| chemical vapor deposition synthesis chamber | камера установки для синтеза химическим осаждением из газовой фазы |
| chemical vapor deposition synthesis chamber | камера установки для синтеза газофазным химическим осаждением |
| chemical vapor deposition synthesis facility | установка для синтеза по технологии химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition synthesis facility | установка для синтеза по технологии химического осаждения из паровой фазы |
| chemical vapor deposition synthesis facility | установка для синтеза по технологии химического газофазного осаждения |
| chemical vapor deposition-synthesized heterostructure | гетероструктура, синтезированная методом химического осаждения из паровой фазы |
| chemical vapor deposition-synthesized heterostructure | гетероструктура, синтезированная методом химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition-synthesized nanotubes | НТ, синтезированные по технологии химического осаждения слоев материала из паровой фазы |
| chemical vapor deposition-synthesized nanotubes | НТ, синтезированные по технологии химического осаждения слоев материала из газовой фазы |
| chemical vapor deposition technology | технология химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition technology | технология химического осаждения из паровой фазы |
| chemical vapor deposition technology | технология химического газофазного осаждения (напр., слоев материала) |
| chemical vapor deposition technology cleaning | очистка материала по технологии химического осаждения из паровой фазы |
| chemical vapor deposition technology cleaning | очистка материала по технологии химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition technology cleaning | очистка газофазным методом |
| chemical vapor deposition technology-cleaned material | материал, очищенный по технологии химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition technology-cleaned material | материал, очищенный по технологии химического осаждения из паровой фазы |
| chemical vapor deposition technology-cleaned material | материал, очищенный газофазным методом |
| chemically vapor deposition nanotechnology | нанотехнология по методу химического осаждения из паровой фазы |
| chemically vapor deposition nanotechnology | нанотехнология по методу химического осаждения из газовой фазы |
| chemically-induced deposition | химически индуцируемое осаждение |
| cluster beam deposition | осаждение кластерным пучком |
| cluster deposition | кластерное осаждение |
| cluster deposition | осаждение кластеров |
| CNTs chemical vapor deposition | газофазное химическое осаждение УНТ |
| coating deposition | осаждение покрытия |
| conformal deposition | конформное осаждение |
| continuous deposition | непрерывное осаждение |
| continuous deposition | непрерывное поглощение энергии |
| continuous deposition | поглощение энергии непрерывного излучения |
| continuous deposition | непрерывное напыление |
| controlled deposition | управляемое осаждение |
| deposition mechanism | механизм осаждения |
| deposition of thermal energy | поглощение тепловой энергии (светового излучения) |
| deposition per mass | удельное поглощение энергии |
| deposition per mass | поглощение энергии единицей массы |
| deposition per volume | поглощение энергии единицей объёма |
| deposition per volume | объёмное поглощение энергии |
| deposition rate | интенсивность поглощения энергии |
| deposition team | техника осаждения |
| deposition team | техника опыления |
| deposition velocity | скорость осаждения |
| deposition without fragmentation | осаждение без фрагментации |
| dielectrophoretic deposition | диэлектрофоретическое осаждение |
| diffusion deposition | диффузионное осаждение |
| diffusionless deposition | бездиффузионное осаждение |
| direct deposition nanofabrication | нанопроизводство методом прямого осаждения |
| direct deposition nanolithography | нанолитография прямого осаждения |
| directed nanowire deposition | направленное осаждение при выращивании нанопроволоки |
| e-beam evaporation deposition | осаждение методом электронно-лучевого испарения |
| e-beam vapor deposition | осаждение методом электронно-лучевого испарения |
| e-beam vapor deposition method | метод физического осаждения из газовой фазы электронно-лучевым испарением |
| e-beam-induced deposition | осаждение, индуцированное электронным пучком |
| electrical deposition | электрическое осаждение |
| electrochemical deposition-modified electrode | электрод, модифицированный методом электрохимического осаждения |
| electrochemically-induced deposition | электрохимически индуцируемое осаждение |
| electron beam deposition | осаждение электронным пучком |
| electron beam physical vapor deposition | электронно-лучевое нанесение покрытий методом осаждения из паровой фазы (MichaelBurov) |
| electron beam physical vapor deposition | электронно-лучевой метод осаждения из паровой фазы (cgbspender) |
| electron beam physical vapor deposition | электронно-лучевой метод осаждения паров (MichaelBurov) |
| electron beam vapor deposition | осаждение методом электронно-лучевого испарения |
| electron beam-enhanced chemical vapor deposition | газофазное осаждение, стимулированное электронным пучком |
| electron beam-enhanced deposition | осаждение, стимулированное электронным пучком |
| electron-beam-induced deposition | осаждение, индуцированное электронным пучком |
| electrophoresochemical deposition | электрофорезохимическое осаждение |
| energy deposition | поглощение энергии |
| energy deposition | удельный энерговклад |
| energy deposition level | уровень удельного поглощения энергии |
| energy deposition rate | интенсивность поглощения энергии излучения |
| FIB-initiated chemical vapor deposition | ФИП-инициированное газофазное осаждение |
| FIB-initiated chemical vapor deposition | газофазное осаждение, инициированное фокусированным ионным пучком |
| FIB-initiated deposition | ФИП-инициированное осаждение |
| FIB-initiated deposition | осаждение, инициированное фокусированным ионным пучком |
| film deposition team | метод осаждения плёнки |
| film fabricated by atomic layer deposition | плёнка, изготовленная методом атомного-слоёвого осаждения |
| film fabricated by atomic layer deposition | плёнка, изготовленная методом атомного-слоевого осаждения |
| floating catalyst chemical vapor deposition | химическое осаждение из паровой фазы с плавающим катализатором |
| floating catalyst chemical vapor deposition | химическое осаждение из газовой фазы с плавающим катализатором |
| focused electron deposition | осаждение фокусированным электронным пучком |
| focused ion beam-initiated chemical vapor deposition | ФИП-инициированное газофазное осаждение |
| focused ion beam-initiated chemical vapor deposition | газофазное осаждение, инициированное фокусированным ионным пучком |
| focused ion beam-initiated deposition | ФИП-инициированное осаждение |
| focused ion beam-initiated deposition | осаждение, инициированное фокусированным ионным пучком |
| gas deposition-etching module | модуль газового осаждения и травления |
| gas-jet deposition | газоструйное осаждение |
| gas-phase deposition | газофазное осаждение (MichaelBurov) |
| gas-phase deposition | ГФО (MichaelBurov) |
| glancing angle deposition | осаждение при угле скольжения (между осаждаемым материалом и поверхностью) |
| gold nanoparticles deposition | осаждение частиц золота |
| grazing incidence deposition | осаждение при скользящем падении |
| grazing incidence deposition | осаждение при падении под малым углом |
| growing in a thermal chemical vapor deposition process | выращивание методом химического осаждения из паровой фазы |
| growing in a thermal chemical vapor deposition process | выращивание методом химического осаждения из газовой фазы |
| hard X-ray deposition | поглощение жёсткого рентгеновского излучения |
| heat deposition | выделение тепла |
| heat deposition | тепловыделение |
| HF plasma-assisted deposition | осаждение с применением высокочастотной плазмы |
| HF plasma-assisted deposition | осаждение с применением ВЧ-плазмы |
| high-frequency plasma-assisted deposition | осаждение с применением высокочастотной плазмы |
| high-frequency plasma-assisted deposition | осаждение с применением ВЧ-плазмы |
| highly-selective deposition | высокоизбирательное осаждение |
| high-pressure deposition | осаждение при высоком давлении |
| high-speed physical vapor deposition | скоростное физическое осаждение из газовой фазы |
| hot wire assisted chemical vapor deposition | химическое осаждение из паровой фазы с помощью нагреваемой проволоки |
| hot wire assisted chemical vapor deposition | химическое осаждение из газовой фазы с помощью нагреваемой проволоки |
| hot-wall chemical vapor deposition | химическое осаждение из паровой фазы на горячую стенку |
| hot-wall chemical vapor deposition | химическое осаждение из газовой фазы на горячую стенку |
| ICB deposition | осаждение ионизированным кластерным пучком |
| in situ deposition | осаждение "на месте" |
| in situ deposition | локальное осаждение |
| in-depth energy deposition | внутреннее поглощение энергии объектом |
| inside vapor deposition | внутриобъёмное осаждение из паровой фазы |
| ion beam deposition | осаждение ионным пучком |
| ion beam deposition | ионно-лучевое напыление |
| ion beam-enhanced chemical vapor deposition | газофазное осаждение, стимулированное ионным пучком |
| ion beam-enhanced deposition | осаждение, стимулированное ионным пучком |
| ion beam-induced deposition | осаждение ионным пучком |
| ion beam-induced deposition | ионно-лучевое напыление |
| ion deposition | ионное осаждение |
| ion deposition | ионное напыление |
| ion deposition-based formation | формирование ионным осаждением |
| ion deposition-based formation | формирование ионным напылением |
| ion-assisted deposition | ионное осаждение |
| ion-assisted deposition | ионное напыление |
| ion-atomic deposition | ионно-атомное напыление |
| ionic deposition | ионное напыление |
| ionic-plasma deposition | ионно-плазменное осаждение |
| ionic-plasma deposition | ионно-плазменное напыление |
| ionized cluster beam deposition | осаждение ионизированным кластерным пучком |
| ionized metal plasma physical vapor deposition | физическое осаждение металлов из ионизированной газовой плазмы |
| isothermal deposition | изотермическое осаждение |
| joules per cubic centimeter deposition | объёмное поглощение энергии Дж/см3 |
| joules per cubic centimeter deposition | объёмное поглощение энергии Дж / см3 |
| joules per gram deposition | удельное поглощение энергии Дж/г |
| joules per gram deposition | удельное поглощение энергии Дж / г |
| kilojoules per gram deposition | удельное поглощение энергии кДж/г |
| kilojoules per gram deposition | удельное поглощение энергии кДж / г |
| layer deposition | осаждение слоя (напр., покрытия) |
| layer-by-layer deposition | послойное осаждение материала |
| layer-by-layer deposition-based treatment | обработка методом послойного осаждения материала |
| LBL deposition | послойное осаждение материала |
| lethal energy deposition | удельный энерговклад поражающего импульса |
| lethal energy deposition | поглощение поражающей энергии |
| liquid-source chemical vapor deposition | химическое осаждение из паровой фазы с жидким источником |
| localized electrochemical deposition | локализованное электрохимическое осаждение |
| low-energy cluster beam deposition | осаждение низкоэнергетическим кластерным пучком |
| low-pressure chemical vapor deposition | разреженное ГФХО |
| low-pressure chemical vapor deposition | химическое осаждение из разреженной газовой фазы |
| low-pressure chemical vapor deposition | химическое осаждение из разреженной паровой фазы |
| low-pressure chemical vapor deposition | разреженное газофазное химическое осаждение |
| low-pressure metalorganic chemical vapor deposition-fabricated semiconductor | полупроводник, изготовленный по технологии химического осаждения из паров металлоорганических соединений при пониженном давлении |
| low-temperature deposition | низкотемпературное осаждение |
| magnetic forces-assisted atomic deposition | атомное осаждение в магнитном поле |
| magnetron sputtering deposition | нанесение слоя методом магнетронного распыления |
| material deposition | осаждение материала |
| material deposition | напыление материала |
| metal oxide deposition | осаждение оксидов металлов |
| metalorganic chemical solution deposition -based nanotechnology | нанотехнология по методу химического осаждения из растворов металлоорганических соединений |
| metalorganic chemical vapor deposition | химическое осаждение из паров металлоорганических соединений |
| metalorganic chemical vapor deposition-based nanotechnology | нанотехнология по методу химического осаждения из паров металлоорганических соединений |
| metalorganic chemical vapor deposition-fabricated semiconductor | полупроводник, изготовленный по технологии химического осаждения из паров металлоорганических соединений |
| metalorganic chemical vapor deposition method | метод химического осаждения из паров металлоорганических соединений |
| metalorganic chemical vapor deposition process | процесс осаждения из паровой фазы металлоорганических химических элементов |
| metalorganic chemical vapor deposition process | процесс осаждения из газовой фазы металлоорганических химических элементов |
| metalorganic chemical vapor deposition technology | технология осаждения из паровой фазы металлоорганических химических элементов |
| metalorganic chemical vapor deposition technology | технология осаждения из газовой фазы металлоорганических химических элементов |
| metal-oxide films deposition | осаждение металлоксидных плёнок |
| microwave plasma-assisted chemical vapor deposition | микроволновое ПХГФО |
| microwave plasma-assisted chemical vapor deposition | микроволновое плазмохимическое газофазное осаждение |
| modified coating deposition | осаждение модифицированного покрытия |
| molecular beam deposition | молекулярно-пучковое осаждение |
| multilayered metal catalysts-used MWCNTs chemical vapor deposition | газофазное химическое осаждение многослойных УНТ с применением многослойных металлических катализаторов |
| multilayered metal catalysts-used MWNTs chemical vapor deposition | газофазное химическое осаждение многослойных УНТ с применением многослойных металлических катализаторов |
| multi-step deposition | многократное осаждение |
| MWCNTs chemical vapor deposition | газофазное химическое осаждение многослойных УНТ |
| MWNTs chemical vapor deposition | газофазное химическое осаждение многослойных УНТ |
| nanocluster deposition | осаждение нанокластеров |
| nanocrystalline diamond deposition | осаждение нанокристаллических алмазов |
| nanocrystals deposition | осаждение нанокристаллов |
| nanofabrication by glancing angle deposition | нанопроизводство осаждением при угле скольжения (между осаждаемым материалом и поверхностью) |
| NanoIink's Patented Process for Deposition of Nanoscale Materials onto a Substrate | перьевая нанолитография (MichaelBurov) |
| NanoIink's Patented Process for Deposition of Nanoscale Materials onto a Substrate | нанолитографический метод погружного пера (MichaelBurov) |
| nanoscale deposition | наноразмерное осаждение |
| nanoscale material deposition | осаждение наноматериала |
| near-normal incidence deposition | осаждение при почти нормальном падении |
| nonmetallic biotemplated nanostructures deposition | осаждение неметаллических наноструктур на биотемплате |
| normal incidence deposition | осаждение при нормальном падении |
| oblique incidence deposition | осаждение при наклонном падении |
| off-normal incidence deposition | осаждение при наклонном падении |
| outside vapor deposition | внешнее осаждение из паровой фазы |
| particle deposition | поглощение частиц пучка |
| photocatalytic deposition | фотокаталитическое осаждение |
| photoselective deposition | фотоизбирательное осаждение |
| photosynthetic deposition | фотосинтетическое осаждение |
| physical deposition | физическое осаждение |
| physical liquid deposition | физическое осаждение из жидкой фазы |
| physical vapor deposition | физическое осаждение из газовой фазы |
| physical vapor deposition method | метод физического осаждения из газовой фазы |
| physical vapor deposition nanofabrication | нанопроизводство методом физического осаждения из газовой фазы |
| physical vapor deposition process | процесс физического осаждения из газовой фазы |
| physical vapor deposition technology | технология физического осаждения из газовой фазы |
| plasma deposition | плазменное напыление |
| plasma deposition | осаждение из плазмы |
| plasma deposition team | метод осаждения из плазмы |
| plasma-assisted chemical vapor deposition | плазмохимическое газофазное осаждение |
| plasma-assisted chemical vapor deposition process | ПХГФО-процесс |
| plasma-assisted chemical vapor deposition process | процесс плазмохимического газофазного осаждения |
| plasma-assisted deposition | плазменное напыление |
| plasma-assisted deposition | плазменное осаждение |
| plasma-assisted deposition | осаждение из плазмы |
| plasma-assisted vapor deposition | плазменное осаждение из паровой фазы |
| plasma-assisted vapor deposition | плазменное осаждение из газовой фазы |
| plasma-chemical deposition | плазмохимическое осаждение |
| plasma-chemical deposition | плазменно-химическое осаждение |
| plasma-chemical deposition facility | установка плазмохимического осаждения |
| plasma-chemical deposition set | установка плазмо-химического осаждения |
| plasma-chemical vapor deposition | плазмохимическое осаждение из газовой фазы |
| plasma-chemical vapor deposition | плазменно-химическое осаждение из газовой фазы |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition | плазмохимическое газофазное осаждение |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition | ПХГФО |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition | плазмостимулированное газофазное осаждение |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition-based nanofabrication | нанопроизводство по технологии плазмостимулированного газофазного осаждения |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition-based nanofabrication | нанопроизводство по технологии плазмостимулированного газофазного выращивания |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition-based nanotechnology | нанотехнология по методу плазмостимулированного газофазного осаждения |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition-based nanotechnology | нанотехнология по методу плазмостимулированного газофазного выращивания |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition-fabricated nanostructure | УНС, изготовленная по технологии плазмостимулированного газофазного осаждения |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition-fabricated silicon | кремний, полученный методом плазмостимулированного газофазного осаждения |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition growth | рост с применением технологии плазмостимулированного газофазного выращивания |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition method | метод плазмохимического газофазного осаждения |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition method | ПХГФО-метод |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition method | метод плазмостимулированного газофазного осаждения |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition nanocarbon | наноуглерод, полученный методом плазмостимулированного газофазного осаждения |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition process | процесс плазмостимулированного газофазного выращивания |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition reactor | реактор плазмохимического газофазного осаждения |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition reactor | реактор плазмостимулированного газофазного осаждения материалов |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition reactor | ПХГФО-реактор |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition synthesis | синтез методом плазмостимулированного газофазного осаждения |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition synthesis | синтез методом плазмохимического газофазного осаждения |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition synthesis | ПХГФО-синтез |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition-synthesized material | материал, синтезированный по методу плазмостимулированного газофазного осаждения |
| plasma-enhanced chemical vapor deposition technology | технология плазмостимулированного газофазного выращивания |
| pre-deposition | предварительное осаждение |
| pre-deposition | предварительно осаждённый слой |
| pulse current deposition | электроосаждение пульсирующим током на шаблонах (MichaelBurov) |
| pulse current deposition | электроосаждение пульсирующим током на темплатах (MichaelBurov) |
| pulse current deposition on templates | электроосаждение пульсирующим током на шаблонах (MichaelBurov) |
| pulse current deposition on templates | электроосаждение пульсирующим током на темплатах (MichaelBurov) |
| pulsed deposition | поглощение энергии импульсного излучения |
| pulsed deposition | импульсное поглощение энергии |
| pulsed vacuum-arc deposition | импульсное вакуумно-дуговое осаждение |
| pulsed vacuum-arc deposition | импульсное вакуумно-дуговое напыление |
| rainbow-like-color deposition | многоцветный налёт |
| rainbow-like-color deposition | многоцветное отложение |
| sequential deposition | последовательное поглощение |
| sidewall deposition | осаждение на боковую стенку |
| soft X-ray deposition | поглощение мягкого рентгеновского излучения |
| solvent deposition | осаждение растворителя |
| sputter deposition | осаждение методом напыления |
| sputtering deposition | осаждение методом напыления |
| subsurface deposition | приповерхностное поглощение |
| subsurface deposition | поглощение энергии приповерхностным слоем мишени |
| successive ionic layer deposition | ионное наслаивание (LOlga) |
| supercritical fluid deposition | осаждение из паровой фазы с источником критической жидкости |
| surface deposition | поверхностное поглощение |
| surface deposition | поглощение энергии поверхностным слоем мишени |
| teflon-like film deposition | осаждение тефлоноподобных плёнок |
| thermal deposition | термоосаждение |
| thermal vapor deposition | осаждение термическим испарением |
| thermal vapor deposition method | метод физического осаждения из газовой фазы термическим испарением |
| thermal-chemical vapor deposition | термохимическое осаждение из газовой фазы |
| thin-film deposition | тонкоплёночное осаждение |
| UHV deposition | осаждение в сверхвысоком вакууме |
| UHV deposition | напыление в сверхвысоком вакууме |
| ultrahigh vacuum deposition | осаждение в сверхвысоком вакууме |
| ultrahigh vacuum deposition | напыление в сверхвысоком вакууме |
| vacuum-arc deposition | вакуумно-дуговое осаждение |
| vacuum-arc deposition | вакуумно-дуговое напыление |
| vapor deposition | газофазное осаждение |
| vapor-liquid-solid deposition | осаждение по механизму пар-жидкость-кристалл |
| vapor-solid deposition | осаждение по механизму пар-кристалл |
| VLS deposition | осаждение по механизму пар-жидкость-кристалл |
| X-ray deposition | поглощение рентгеновского излучения |
